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拓荆科技公布国际专利申请:“工艺腔室、半导体器件的加工设备及方法”

2026年03月08日

拓荆科技公布国际专利申请:“工艺腔室、半导体器件的加工设备及方法”
图片来源于网络,如有侵权,请联系删除

证券之星消息,根据企查查数据显示拓荆科技(688072)公布了一项国际专利申请,专利名为“工艺腔室、半导体器件的加工设备及方法”,专利申请号为PCT/CN2024/118568,国际公布日为2026年3月5日。

专利详情如下:

拓荆科技公布国际专利申请:“工艺腔室、半导体器件的加工设备及方法”
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图片来源:世界知识产权组织(WIPO)

今年以来拓荆科技已公布的国际专利申请1个。结合公司2025年中报财务数据,2025上半年公司在研发方面投入了3.01亿元,同比减4.33%。

数据来源:企查查

以上内容为证券之星据公开信息整理,由AI算法生成(网信算备310104345710301240019号),不构成投资建议。

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