京东方Ａ获得发明专利授权：“阵列基板及其制造方法、探测装置”

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“阵列基板及其制造方法、探测装置”，专利申请号为CN202310296347.4，授权日为2025年9月5日。

专利摘要：本申请实施例提供了一种阵列基板及其制造方法、探测装置。该阵列基板，包括：薄膜晶体管结构，设置在基底的一侧；薄膜晶体管结构包括有源结构、栅极和源漏极，栅极设置在有源结构远离基底的一侧，源漏极设置在栅极远离有源结构的一侧；第一电极结构，设置在基底的一侧；第一电极结构与有源结构，同层且相互分隔，通过源漏极电连接；光电器件结构，设置在第一电极结构远离基底的一侧；遮光结构，设置在薄膜晶体管结构和基底之间，遮光结构与源漏极电连接。本申请实施例提供的阵列基板，有效降低光漏电噪音，有效降低X射线的照光剂量。

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今年以来京东方Ａ新获得专利授权2692个，较去年同期增加了3.34%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了60.46亿元，同比增4.13%。

数据来源：天眼查APP

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